CNR Institutional Research Information System

On the use of NF3 plasmas for amorphous silicon ablation

G Cicala;M Losurdo
1993
1993
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
11th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-11) Proceedings IUPAC
11th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-11) Proceedings IUPAC
III
873
878
6
Sì, ma tipo non specificato
Agosto 1993
Loughborough (Inghilterra)
1
none
G. Bruno; P. Capezzuto; P. Manodoro; G. Cicala; M. Losurdo
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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