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Chemical Model of Plasma Deposition of Amorphous Silicon Films from SiCl4-H2 Mixtures

G Cicala;
1987
1987
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
Atti del XX Congresso Nazionale di Chimica Inorganica
XX Congresso Nazionale di Chimica Inorganica
C16
Settembre 1987
Pavia
4
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
none
274
04 Contributo in convegno::04.02 Abstract in Atti di convegno
Bruno, G; Capezzuto, P; Cicala, G; Cramarossa, F
04.02 Abstract in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/130939
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