Plasma Modulation: a chance to improve the amorphous silicon deposition process

G Cicala;M Losurdo
1993

1993
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
Atti del XXII Congresso Nazionale di Chimica Inorganica
XXII Congresso Nazionale di Chimica Inorganica
CM22 p. 151
Settembre 1993
Villasimius (Cagliari)
1
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
none
274
04 Contributo in convegno::04.02 Abstract in Atti di convegno
P. Capezzuto; G. Bruno; G. Cicala; M. Losurdo
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