CNR Institutional Research Information System

Behaviour of low energy As ions implanted in Si through a thin oxide layer

Ferri M;Parisini A;Solmi S;
2004
2004
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
ITC-Irst European workshop: Recent Advances in Ultra Shallow Junctions 24-25 Nov. 2004 Povo (TN)
Sì, ma tipo non specificato
Povo (TN)
6
none
Ferri, M; Parisini, A; Solmi, S; Bersani, M; Giubertoni, D; Barozzi, M
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/150119
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