Dependence of the transient enhanced diffusion, of B in Si, upon B concentration and ion implanted dose

Solmi S;Mannino G;Servidori M;Milita S;Privitera V;
2002

2002
3
info:eu-repo/semantics/article
262
Solmi, S; Mannino, G; Servidori, M; Bersani, M; Mancini, L; Milita, S; Privitera, V; Anderle, M
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
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