Low-temperature ion-assisted epitaxy of deposited silicon layers

C Spinella;
1990

1990
Inglese
1990 ANNUAL ESPIRIT CONF
105
116
12
0-7923-1039-X
Sì, ma tipo non specificato
NOV 12-15, 1990
BRUSSELS, BELGIUM
3
none
Priolo, F; Spinella, C; Rimini, E
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/248590
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact