Optical elements working at 121.6nm make use of Al and MgF2. We analyzed mono- and bi-layers of these materials, deposited by e-beam evaporation, and discussed how substrate temperatures and annealing affect their performances.

Efficiency of VUV Optical Materials According to Variations in Deposition Conditions

A J Corso;P Zuppella;M G Pelizzo
2015

Abstract

Optical elements working at 121.6nm make use of Al and MgF2. We analyzed mono- and bi-layers of these materials, deposited by e-beam evaporation, and discussed how substrate temperatures and annealing affect their performances.
2015
Creole e pidgin, basati sull'inglese (Altre)
OSA Novel Optical Materials and Applications 2015
27/06/2015, 01/07/2015
Thin film
optical constant
ultraviolet
space
3
none
M. Nardello; A. J. Corso; P. Zuppella; F. Gerlin; E. Tessarolo; D. Bacco;M. G. Pelizzo
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/384262
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