CHINI, EDOARDO

CHINI, EDOARDO  

Istituto per lo Studio dei Materiali Nanostrutturati - ISMN - Sede Secondaria Bologna  

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Titolo Data di pubblicazione Autore(i) File
SiO2 Electret Formation via Stamp-Assisted Capacitive Coupling: A Chemophysical Surface Functionalisation 1-gen-2026 Chini, Edoardo; Gentili, Denis; Liscio, Andrea; Cavallini, Massimiliano
D1.1.7.6 - Ottimizzazione e scale-up componenti per elettrolizzatori avanzati (Report PORH2) 1-gen-2025 Siracusano, Stefania; Ciccio, Veronica; Giacobello, Fausta; Mancuso, Maria Aurora; Muscolino, Alessandra; Mondello, Bryan; La Fauci, Giovanni; Urso, Gabriele; Costantino, Claudia; Monforte, Giuseppe; Bottari, Maria; Arico', Antonino Salvatore; Fontananova, Enrica; Galiano, Francesco; Talarico, Daria; Figoli, Alberto; Pagliaro, Mario; Lavacchi, Alessandro; Chini, Edoardo; El Halimi, Mohammad Said; Lunedei, Eugenio; Mezzi, Alessio; Cavallini, Massimiliano; De Giorgio, Francesca
Edge Engineering in MoS2 by Chemically Induced Nano-Folding 1-gen-2025 Chini, E.; Esposito, F.; Benekou, V.; Muhyuddin, M.; Lunedei, E.; Ruani, G.; Rizzoli, R.; Calabrese Sivieri, G.; Liscio, F.; Corticelli, F.; Seravalli, L.; D'Angelo, P.; Palermo, V.; Santoro, C.; Candini, A.; Gentili, D.; Cavallini, M.