GERLIN, FRANCESCA
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Angular reflectance of graphene/SiO2/Si in UV spectral range: A study for potential applications
2017 Zuppella, Paola; Zuppella, Paola; Gerlin, Francesca; Gerlin, Francesca; Pelizzo, MARIA GUGLIELMINA; Guglielmina, Maria
Stability and extreme ultraviolet photo-reduction of graphene during C-K edge NEXAFS characterization
2016 Gerlin, Francesca; Gerlin, Francesca; Zuppella, Paola; Zuppella, Paola; Corso, ALAIN JODY; Jody, Alain; Nardello, ; Marco, ; Tessarolo, Enrico; Tessarolo, Enrico; Bacco, Davide; Bacco, Davide; Pelizzo, MARIA GUGLIELMINA; Guglielmina, Maria
Characterization of TiO2 thin films in the EUV and soft X-ray region
2015 Comisso, A; Giglia, A; Nardello, M; Tessarolo, E; Calvillo, L; Sertsu, Mg; Granozzi, G; Gerlin, F; Brigo, L; Nicolosi, P
| Titolo | Data di pubblicazione | Autore(i) | File |
|---|---|---|---|
| Angular reflectance of graphene/SiO2/Si in UV spectral range: A study for potential applications | 1-gen-2017 | Zuppella, Paola; Zuppella, Paola; Gerlin, Francesca; Gerlin, Francesca; Pelizzo, MARIA GUGLIELMINA; Guglielmina, Maria | |
| Stability and extreme ultraviolet photo-reduction of graphene during C-K edge NEXAFS characterization | 1-gen-2016 | Gerlin, Francesca; Gerlin, Francesca; Zuppella, Paola; Zuppella, Paola; Corso, ALAIN JODY; Jody, Alain; Nardello, ; Marco, ; Tessarolo, Enrico; Tessarolo, Enrico; Bacco, Davide; Bacco, Davide; Pelizzo, MARIA GUGLIELMINA; Guglielmina, Maria | |
| Characterization of TiO2 thin films in the EUV and soft X-ray region | 1-gen-2015 | Comisso, A; Giglia, A; Nardello, M; Tessarolo, E; Calvillo, L; Sertsu, Mg; Granozzi, G; Gerlin, F; Brigo, L; Nicolosi, P |