CNR Institutional Research Information System

Method of fabricating electronic devices integrated in semiconductor substrates provided with gettering sites, and a device fabricated by the method

2004
2004
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
Electronic devices
Gettering
Ion implantation
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Si tratta di una metodologia di fabbricazione di dispositivi microelettronici, integrati monoliticamente in un substrato semiconduttore, nei quali almeno una regione non attiva risulta contigua ad almeno una regione attiva. Tale metodologia cconsiste in un porcesso di impiantazione ionica di gas nobili seguito da un trattamento termico per formare microcavità con funzione di getter dopo evaporazione del gas nobile. L'impiantazione ionica è eseguita nella regione non attiva del dispositivo.
0
06 Brevetti::06.01 Brevetto di invenzione industriale
none
Saggio M; Raineri V; Stagnitti U; Mugavero S
info:eu-repo/semantics/patent
285
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/142261
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