CNR Institutional Research Information System

Messa a punto di un processo di realizzazione di transistor a film sottile di silicio policristallino su substrati plastici (polyimide).

L Mariucci;A Minotti;L Maiolo;G Fortunato
2007
2007
Istituto di fotonica e nanotecnologie - IFN
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
05.12 Altro
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/152084
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