CLASS è un pacchetto software per la simulazione delle modifiche dei materiali causati dal processo di laser annealing. Lapproccio numerico usato ricade nella formulazione a campi di fase (phase field). Il codice è stato specificatamente progettato per lapplicazione del processo laser per lattivazione del drogante nella fabbricazione dei micro e nano dispositivi in silicio. CLASS permette di simulare nel tempo di durata del processo (qualche decina di ns) sia la cinetica dei cambiamenti di fase, indotti in scala nanometrica dallirraggiamento, che la ridistribuzione e attivazione del drogante. Quindi, gli effetti globali dellirraggiamento possono essere valutati al variare dei parametri di processo (energia del laser, temperatura del substrato, distribuzione iniziale di impurezze droganti). CLASS rientra nella tipologia dei codici per il Technology Computer Aided Design (TCAD), che permettono la simulazione di processo considerando la struttura reale del dispositivo in esame. Le geometrie della struttura possono essere sia a una dimensione (strati sovrapposti di differenti materiali corrispondenti a porzioni particolari di dispositivo) che a due dimensioni (dispositivi completi) e contenere i differenti materiali usati nella microelettronica.
Codice di simulazione CLASS (Catania Laser Annealing Simulation Suite)
La Magna A
2003
Abstract
CLASS è un pacchetto software per la simulazione delle modifiche dei materiali causati dal processo di laser annealing. Lapproccio numerico usato ricade nella formulazione a campi di fase (phase field). Il codice è stato specificatamente progettato per lapplicazione del processo laser per lattivazione del drogante nella fabbricazione dei micro e nano dispositivi in silicio. CLASS permette di simulare nel tempo di durata del processo (qualche decina di ns) sia la cinetica dei cambiamenti di fase, indotti in scala nanometrica dallirraggiamento, che la ridistribuzione e attivazione del drogante. Quindi, gli effetti globali dellirraggiamento possono essere valutati al variare dei parametri di processo (energia del laser, temperatura del substrato, distribuzione iniziale di impurezze droganti). CLASS rientra nella tipologia dei codici per il Technology Computer Aided Design (TCAD), che permettono la simulazione di processo considerando la struttura reale del dispositivo in esame. Le geometrie della struttura possono essere sia a una dimensione (strati sovrapposti di differenti materiali corrispondenti a porzioni particolari di dispositivo) che a due dimensioni (dispositivi completi) e contenere i differenti materiali usati nella microelettronica.I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
