CNR Institutional Research Information System

?Procedimento su larga area per l?ossidazione locale del silicio e/o altri materiali mediante stampaggio su scale micro- e nanometriche?

M Cavallini;
2003
2003
Istituto per lo Studio dei Materiali Nanostrutturati - ISMN
nanotecnoloy
nanofabrication
silicon technology
local oxidation
patterning
Può essere sfruttato come primo passo per la fabbricazione di templati di silicio o altre superfici ossidabili via ossidazione anodica, su cui fabbricare sturtture per litografia costruttiva.
0
06 Brevetti::06.01 Brevetto di invenzione industriale
none
M. Cavallini; F. Biscarini; P. Mei; R. Garcìa
info:eu-repo/semantics/patent
285
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/194442
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