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Processi di deposizione via plasma di film sottili per la modificazione delle proprietà di superficie dei materiali

Vassallo E
1999

Abstract

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1999
Istituto di fisica del plasma - IFP - Sede Milano
film sottili
plasma physics
08.04 Rapporto tecnico
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/262468
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