L'ossido di silicio è un materiale trasparente e di discreta durezza, ma ancora poco studiato come film protettivo da depositare mediante la tecnica ALD a bassa temperature su substrati metallici. L'attività di ricerca in oggetto si articolerà sulla ricerca bibliografica per l'identificazione di precursori adatti alla deposizione ALD a bassa temperatura e prove preliminari di deposizione.
Studio preliminare sulla deposizione di ossido di silicio via ALD a bassa temperatura
2014
Abstract
L'ossido di silicio è un materiale trasparente e di discreta durezza, ma ancora poco studiato come film protettivo da depositare mediante la tecnica ALD a bassa temperature su substrati metallici. L'attività di ricerca in oggetto si articolerà sulla ricerca bibliografica per l'identificazione di precursori adatti alla deposizione ALD a bassa temperatura e prove preliminari di deposizione.File in questo prodotto:
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