XRR evaluation of implanted nitride films as trapping layers in Si/SiO2/Si3N4 /Al2O3 stacks and Si/SiO2/Si3N4 stacks
c wiemer
2010
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.


