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Crescita e caratterizzazione di film sottili a base di ZrTiO4 mediante MOCVD

Crescita e caratterizzazione di film sottili a base di ZrTiO4 mediante MOCVD / Acusmà,. - .

Crescita e caratterizzazione di film sottili a base di ZrTiO4 mediante MOCVD

Abstract

Crescita e caratterizzazione di film sottili a base di ZrTiO4 mediante MOCVD
film sottili
mocvd
afm
tecniche di caratterizzazione superficiale
Prof. G. Gusmano
07.01 Tesi di dottorato
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/292509
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