Un versatile riscaldatore di substrati per la crescita di film sottili per celle solari

Nel presente rapporto descriviamo la progettazione e la costruzione di un riscaldatore di substrati per la crescita di film sottili in sistemi di deposizione ad alto vuoto, come la Pulsed Laser Deposition e lo sputtering a radiofrequenza. Il riscaldatore consiste di un blocco cavo di acciaio AISI 316, di una bobina di filo metallico alimentata da un generatore di potenza, da una termocoppia, e da ceramiche isolanti. Con questo riscaldatore è possibile settare e regolare la temperatura del substrato, variando la potenza elettrica fornita alla bobina, in un ampio range di temperatura a partire dalla temperatura ambiente fino a 600 °C.