La presente invenzione riguarda un metodo di deposizione di uno o più strati di Perovskite, ad esempio del tipo descritto in [1], di elevata qualità ed elevate prestazioni tecniche su di un substrato. La presente invenzione riguarda altresì un apparato per l’implementazione di un tale metodo.
METHOD AND APPARATUS FOR DEPOSITION OF A PEROVSKITE LAYER ON A SUBSTRATE
Alessandra Alberti
;Emanuele Smecca;Antonino La Magna;
2022
Abstract
La presente invenzione riguarda un metodo di deposizione di uno o più strati di Perovskite, ad esempio del tipo descritto in [1], di elevata qualità ed elevate prestazioni tecniche su di un substrato. La presente invenzione riguarda altresì un apparato per l’implementazione di un tale metodo.File in questo prodotto:
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