La presente invenzione riguarda un metodo di deposizione di uno o più strati di Perovskite, ad esempio del tipo descritto in [1], di elevata qualità ed elevate prestazioni tecniche su di un substrato. La presente invenzione riguarda altresì un apparato per l’implementazione di un tale metodo.
METHOD AND APPARATUS FOR DEPOSITION OF A PEROVSKITE LAYER ON A SUBSTRATE
Alessandra Alberti
;Emanuele Smecca;Antonino La Magna;
2022
Abstract
La presente invenzione riguarda un metodo di deposizione di uno o più strati di Perovskite, ad esempio del tipo descritto in [1], di elevata qualità ed elevate prestazioni tecniche su di un substrato. La presente invenzione riguarda altresì un apparato per l’implementazione di un tale metodo.File in questo prodotto:
| File | Dimensione | Formato | |
|---|---|---|---|
|
IT_202100001898_A1.pdf
accesso aperto
Descrizione: Brevetto
Tipologia:
Versione Editoriale (PDF)
Licenza:
Altro tipo di licenza
Dimensione
1.15 MB
Formato
Adobe PDF
|
1.15 MB | Adobe PDF | Visualizza/Apri |
|
P1484IT00_20230210_UIBM_Attestato Concessione.pdf
accesso aperto
Descrizione: Attestato Concessione
Tipologia:
Versione Editoriale (PDF)
Licenza:
Altro tipo di licenza
Dimensione
86.97 kB
Formato
Adobe PDF
|
86.97 kB | Adobe PDF | Visualizza/Apri |
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.
