ICMATE-CNR si propone di evitare, o quantomeno limitare, l'infragilimento dei materiali metallici usati per il trasporto e lo stoccaggio dell'idrogeno attraverso la progettazione di coatings barriera alla permeazione dell'idrogeno (Hydrogen Permeation Barrier, HPB) a base di ossidi, utilizzando la tecnica di deposizione chimica da fase vapore MOCVD (Metal Organic Chemical Vapour Deposition). L’analisi di letteratura ha indicato come materiali promettenti a tale scopo sistemi compositi bi- e/o multi-layer TiO2/Al2O3. L’attività sperimentale si è concentrata, inizialmente, nella definizione dei parametri MOCVD ottimali su substrati di prova di Si e, successivamente, sul trasferimento della procedura ottimizzata sui substrati reali di acciaio. In seguito ai processi di deposizione i materiali sono stati sottoposti a caratterizzazione morfologica, strutturale e composizionale. Infine, tramite valutazioni della bagnabilità all’acqua della superficie (CA, Contact Angle), sono state definite le condizioni ottimali di attivazione della superficie di acciaio tramite torcia al plasma atmosferico (APT, Atmospheric Plasma Torch). I parametri APT ottimizzati saranno impiegati in seguito nel processo dual-step combinato APT e MOCVD per la crescita di film di ossidi metallici su substrati di acciaio.
Report sull’applicazione dell’approccio dual-step attivazione plasma – deposizione MOCVD per la produzione di rivestimenti di ossidi metallici su acciaio con proprietà HPB e anti-corrosione/anti-infragilimento su substrati in acciaio
F. VisentinPrimo
;A. GalendaSecondo
;N. El HabraUltimo
2024
Abstract
ICMATE-CNR si propone di evitare, o quantomeno limitare, l'infragilimento dei materiali metallici usati per il trasporto e lo stoccaggio dell'idrogeno attraverso la progettazione di coatings barriera alla permeazione dell'idrogeno (Hydrogen Permeation Barrier, HPB) a base di ossidi, utilizzando la tecnica di deposizione chimica da fase vapore MOCVD (Metal Organic Chemical Vapour Deposition). L’analisi di letteratura ha indicato come materiali promettenti a tale scopo sistemi compositi bi- e/o multi-layer TiO2/Al2O3. L’attività sperimentale si è concentrata, inizialmente, nella definizione dei parametri MOCVD ottimali su substrati di prova di Si e, successivamente, sul trasferimento della procedura ottimizzata sui substrati reali di acciaio. In seguito ai processi di deposizione i materiali sono stati sottoposti a caratterizzazione morfologica, strutturale e composizionale. Infine, tramite valutazioni della bagnabilità all’acqua della superficie (CA, Contact Angle), sono state definite le condizioni ottimali di attivazione della superficie di acciaio tramite torcia al plasma atmosferico (APT, Atmospheric Plasma Torch). I parametri APT ottimizzati saranno impiegati in seguito nel processo dual-step combinato APT e MOCVD per la crescita di film di ossidi metallici su substrati di acciaio.File | Dimensione | Formato | |
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