CICALA, GRAZIA

CICALA, GRAZIA  

Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi - ISTP  

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?Effect of bias voltage on the growth and properties of PECVD hydrogenatede amorphous carbon films 1-gen-2003 G. Cicala; P. Bruno; A.M. Losacco;G. S. Senesi
?High resolution humidity sensor based on polymer-coated STW resonant device 1-gen-2003 Bruno, P; Cicala, G; Corsi, F; Dragone, A; M Losacco, A
A comparative study on comb electrodes devices made of MWPECVD diamond films grown on p-doped and intrinsic silicon substrate 1-gen-2010 M.F.Muscarella; D. Altamura; R. Brescia; M. Capitelli; G. Casamassima; T. Cassano; R. Celiberto; G. Cicala; D. Cornacchia; A. De Giacomo; O. De Pascale; C. Favuzzi; G. Ferraro; P. Fusco; F. Gargano; N. Giglietto; F. Giordano; C. Gorse; S. Longo; F. Lop
A New Methodology to Improve the Quality of NCD Films Produced by MWPECVD: Role of Buffer Layer 1-gen-2011 G. Cicala; D. Cornacchia; D. Monéger; V. Magaletti; P. Pesce
A new plasma chemical system for the deposition of amorphous silicon-germanium alloys 1-gen-1991 P. Capezzuto; G. Cicala; M. Losurdo; G. Bruno
Amorphous to nanocrystalline transition in hydrofluorinated silicon films from helium diluted SiF4-H2 plasmas 1-gen-1997 G. Cicala; P. Capezzuto;G. Bruno
Amorphous to nanocrystalline transition in the plasma deposition of silicon films from SiF4-H2-He 1-gen-1998 G. Cicala; P. Capezzuto;Bruno
Anatomy of mc-Si thin films by plasma enhanced chemical vapor deposition: An investigation by spectroscopic ellipsometry 1-gen-2000 Losurdo, M; Rizzoli, R; Summonte, C; Cicala, G; Capezzuto, P; Bruno, G
Anatomy of mu c-Si thin films by plasma enhanced chemical vapor deposition: An investigation by spectroscopic ellipsometry 1-gen-2000 Losurdo, M; Rizzoli, R; Summonte, C; Cicala, G; Capezzuto, P; Bruno, Giovanni; G,
ATHENA detector proposal - a totally hermetic electron nucleus apparatus proposed for IP6 at the Electron-Ion Collider 1-gen-2022 Adam J.; Adamczyk L.; Agrawal N.; Aidala C.; Akers W.; Alekseev M.; Allen M. M.; Ameli F.; Angerami A.; Antonioli P.; Apadula N. J.; Aprahamian A.; Armstrong W.; Arratia M.; Arrington J. R.; Asaturyan A.; Aschenauer E. C.; Augsten K.; Aune S.; Bailey K.; Baldanza C.; Bansal M.; Barbosa F.; Barion L.; Barish K.; Battaglieri M.; Bazilevsky A.; Behera N. K.; Berdnikov V; Bernauer J.; Berriaud C.; Bhasin A.; Bhattacharya D. S.; Bielcik J.; Bielcikova J.; Bissolotti C.; Boeglin W.; Bondi M.; Borri M.; Bossu F.; Bouyjou F.; Brandenburg J. D.; Bressan A.; Brooks M.; Bultmann S. L.; Byer D.; Caines H.; de la Barca Sanchez M. 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Biomedical prostheses coated by tailored MWPECVD nanocrystalline diamond films 1-gen-2015 Massaro, A; Velardi, L; S Senesi, G; Carbone, G; Cicala, G
Carbon-based materials for cathode neutralizers in electric propulsion 1-gen-2017 Cicala, G; Velardi, L; S Senesi, G; DE PASCALE, Olga
Characterization of polycrystalline diamond films grown by Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (MWPECVD) for UV radiation detection 1-gen-2009 Acquafredda, P; Bisceglie, E; Bottalico, D; Brescia, R; Brigida, M; Caliandro, Ga; Capitelli, M; T Cassano, G Casamassima; Celiberto, R; Cicala, G; Crismale, V; De Giacomo, A; DE PASCALE, Olga; Favuzzi, C; Ferraro, G; Fusco, P; Gargano, F; Giglietto, N; Giordano, F; Gorse, C; Laporta, V; Longo, S; Loparco, F; Marangelli, B; Mazziotta, Mn; Mirizzi, N; Muscarella, Mf; Nitti, Ma; Rainò, A; Romeo, A; Senesi, G; Spinelli, P; Valentini, A; Verrone, G
Characterization of polycrystalline diamond films grown by Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (MWPECVD) for UV radiation detection 1-gen-2010 Acquafredda, P; Bisceglie, E; Bottalico, D; Brescia, R; Brigida, M; Caliandro, Ga; Capitelli, M; Casamassima, G; Cassano, T; Celiberto, R; Cicala, G; Crismale, V; DE GIACOMO, Alessandro; De Pascale, O; Favuzzi, C; Ferraro, G; Fusco, P; Senesi, G; Gorse, C
Chemical Model of Plasma Deposition of Amorphous Silicon Films from SiCl4-H2 Mixtures 1-gen-1987 Bruno, G; Capezzuto, P; Cicala, G; Cramarossa, F
Chemisorption processes in glow discharges silicon deposition: experimental evidence on the identity of the growth precursors 1-gen-1986 Bruno, G; Capezzuto, P; Cicala, G; Cramarossa, F
Chemistry of Amorphous Silicon Deposition Processes : Fundamentals and Controversial Aspects 1-gen-1995 Giovanni Bruno; Pio Capezzuto;Grazia Cicala
Comparative photoemission study between nanocrystalline diamond films and nanodiamond layers 1-gen-2015 Velardi, L; Massaro, A; Senesi, G S; Nitti, M A; De Pascali, G; Melisi, D; Valentini, M; Valentini, A; Cicala, G
Comparison between photoemitting and colloidal properties of nanodiamond particles 1-gen-2017 Cicala, G; Velardi, L; Palazzo, G; Valentini, A; Perna, G; Capozzi, V
Continuous and modulated deposition of fluorocarbon films by means of C-C4F8 plasmas 1-gen-2003 Milella, Antonella; Palumbo, Fabio; Favia, Pietro; Cicala, Grazia; dAgostino, Riccardo