CNR Institutional Research Information System

"Low Temperature Deposition of SiNx Thin Films by the LPCVD Method"

A Chiasera;M Ferrari;
2012
2012
Istituto di fotonica e nanotecnologie - IFN
silicon nitride; thin film; LPCVD method; Raman; FTIR
01.01 Articolo in rivista
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