CNR Institutional Research Information System

"Low Temperature Deposition of SiNx Thin Films by the LPCVD Method"

A Chiasera;M Ferrari;
2012
2012
Istituto di fotonica e nanotecnologie - IFN
85
97
100
silicon nitride; thin film; LPCVD method; Raman; FTIR
3
info:eu-repo/semantics/article
262
Z. Tijanic; D. Ristic; M. Ivanda; I. BogdanovicRadovic; M. Marcius; M. Ristic; O. Gamulin; S. Music; K. Furic; A. Chiasera; M. Ferrari; G.C. Righini...espandi
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