CNR Institutional Research Information System

Organometallic Compounds as Precursors for Chemical Vapor Deposition of Thin Films of Inorganic Materials

Gerbasi R;Porchia M;Rossetto G
1998
1998
CHIMICA INORGANICA E DELLE SUPERFICI
Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia - ICMATE
MOCVD
Precursor
Synthesis
Thin Film
04.01 Contributo in Atti di convegno
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