CNR Institutional Research Information System

Organometallic Compounds as Precursors for Chemical Vapor Deposition of Thin Films of Inorganic Materials

Gerbasi R;Porchia M;Rossetto G
1998
1998
CHIMICA INORGANICA E DELLE SUPERFICI
Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia - ICMATE
Inglese
Dragan P. Uskokovic, Slobodan K. Milonjic, Dejan I. Rakovic
Advanced Materials and Processes: YUCOMAT '97
Second Yugoslav Conference on Advanced Materials
282-283
123
130
8
http://www.scientific.net/MSF.282-283.123
Sì, ma tipo non specificato
September 15-19, 1997
Herceg-Novi
MOCVD
Precursor
Synthesis
Thin Film
6
none
Zanella, P; Battiston, Ga; Carta, G; Gerbasi, R; Porchia, M; Rossetto, G
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/131130
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