CNR Institutional Research Information System

A comparative analysis of Silicon Dioxide films deposited by ECR -PECVD, RF-PECVD and APCVD for low temperature polysilicon TFTs

A Pecora;L Maiolo;G Fortunato;
2006
2006
Inglese
352
1430
1433
3
2-s2.0-33744517744
Sì, ma tipo non specificato
4
info:eu-repo/semantics/article
262
Pecora, A; Maiolo, L; Fortunato, G; Caligiore, C
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
01.01 Articolo in rivista
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