We describe the design and demonstrate a two-axis tip-tilt platform stacked on a translation stage for combined x-ray and optical interferometry, electronically controlled to compensate for parasitic rotations and straightness errors. The key characteristic of the platform is its carrying out translations and rotations by sliding. In spite of the potential stop-and-go motion, an x-ray interferometer was successfully operated and guiding errors were kept to within 1 nrad and 1 nm. The platform made it possible the motion of the x-ray interferometer up to a couple of millimetres. In addition, the combined x-ray and optical interferometer allowed us to investigate the micro-dynamics of sliding.

A two-axis tip-tilt platform for x-ray interferometry

A Bergamin;
2003

Abstract

We describe the design and demonstrate a two-axis tip-tilt platform stacked on a translation stage for combined x-ray and optical interferometry, electronically controlled to compensate for parasitic rotations and straightness errors. The key characteristic of the platform is its carrying out translations and rotations by sliding. In spite of the potential stop-and-go motion, an x-ray interferometer was successfully operated and guiding errors were kept to within 1 nrad and 1 nm. The platform made it possible the motion of the x-ray interferometer up to a couple of millimetres. In addition, the combined x-ray and optical interferometer allowed us to investigate the micro-dynamics of sliding.
2003
IMGC - Istituto di metrologia "Gustavo Colonnetti"
14
717
723
nanotecnologia
misurazioni
ing. precisione
metrologia
L'articolo è inserito nel quadro degli sviluppi tecnologici necessari alla misura, il controllo e la manipolazione di oggetti con risoluzione alla scala atomica. I risultati descritti coronano un programma di ricerca e sviluppo iniziato nei primi anni '90 e rappresentano un traguardo insuperato, per estensione dello spostamento, numero di gradi di libertà controllati e risoluzione. In virtù delle competenze svi- luppate e dei risultati ottenuti, nell'ambito di una collaborazione di ricerca internazionale, all'IMGC è stata assegnata la responsabilità della misurazione del parametro reticolare del Si mediante interferome- tria X/ottica. Uno degli autori (G. Mana) è stato invitato a presentare i risultati descritti nell'articolo in oggetto alla "VII international conference on laser metrology" organizzata dalla International Society for Optical Engineering (Akademgorodok, Russia, 9-13 Settembre 2002).
1
info:eu-repo/semantics/article
262
A. Bergamin; G. Cavagnero; G. Durando; G. Mana; E. Massa
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/169097
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