CNR Institutional Research Information System

Clustering of ultra-low-energy implanted boron in silicon during activation annealing

Privitera V;Napolitani E;
2000
2000
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
Inglese
71
219
223
Sì, ma tipo non specificato
PHYSICAL-MECHANISMS; DIFFUSION
2
info:eu-repo/semantics/article
262
Schroer, E; Privitera, V; Priolo, F; Napolitani, E; Carnera, A; Moffatt, S
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
01.01 Articolo in rivista
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/178036
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