CNR Institutional Research Information System

Dopant profiling in silicon wafers by Fourier transform infrared spectroscopy

RBernini;
2002
2002
Inglese
Proceedings of the 11th International Symposium on Nondestructive Characterization of Materials
Nondestructive characterization of materials XI
507
514
3540401547
Sì, ma tipo non specificato
June, 24-28
Berlin, Germany
6
none
Rbernini, ; Breglio, G; Cutolo, A; Irace, A; Persiano, G; Zeni, L
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/188775
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