INFLUENCE OF A THIN INTERFACIAL OXIDE LAYER ON THE ION-BEAM ASSISTED EPITAXIAL CRYSTALLIZATION OF DEPOSITED SI

PRIOLO F;RIMINI E;
1988

1988
Inglese
53
26
2605
2607
3
Sì, ma tipo non specificato
3
info:eu-repo/semantics/article
262
PRIOLO F; LAFERLA A; SPINELLA C; RIMINI E; FERLA G; BAROETTO F; LICCIARDELLO A
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
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