ION-BEAM-INDUCED EPITAXIAL CRYSTALLIZATION OF IMPLANTED AND CHEMICAL VAPOR-DEPOSITED AMORPHOUS-SILICON

PRIOLO F;RIMINI E;
1989

1989
Inglese
39
1-4
311
317
7
6
info:eu-repo/semantics/article
262
Laferla, A; Priolo, F; Spinella, C; Rimini, E; Baroetto, F; Ferla, G
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
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