CNR Institutional Research Information System

Activation of ion implanted Si for backside processing by ultra-fast laser thermal annealing: Energy homogeneity and micro-scale sheet resistance

La Magna A;
2009
2009
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
978-1-4244-3815-0
04.01 Contributo in Atti di convegno
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