CNR Institutional Research Information System

Damage evolution in implanted silicon by pulsed excimer laser annealing

Fisicaro G;La Magna A;Privitera V;
2009
2009
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
Inglese
17th IEEE Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors, RTP 2009
978-1-4244-3815-0
Sì, ma tipo non specificato
29/9/2009
Albany (USA)
8
none
Fisicaro, G; La Magna, A; Piccitto, G; Privitera, V; Huet, K; Venturini, J; Besaucele, ; H,
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/201938
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