CNR Institutional Research Information System

Using UV-based Nanoimprint Lithography to Fabricate Single and Multilayer negative Index Materials

M Losurdo;G Bruno;
2012
2012
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
28th European Mask and Lithography Conference
January 17 - 18, 2012
Dresden, Germany
17
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
none
274
04 Contributo in convegno::04.02 Abstract in Atti di convegno
Bergmair, I; Dastmalchi, B; Bergmair, M; Hesser, G; Losurdo, M; Bruno, G; Helgert, C; Pshenayseverin, E; Pertsch, T; Kley, Eb; Huebner, U; Penciu, R; ...espandi
04.02 Abstract in Atti di convegno
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