Stigmatic EUV spectroscopic system for emission and absorption studies of laser-produced plasmas

L Poletto;
2000

2000
Istituto di fotonica e nanotecnologie - IFN
Instrumentation for UV/EUV Astronomy and Solar Missions
SPIE Optics and Photonics 2000
59
69
Sì, ma tipo non specificato
3
none
Poletto, L; Nicolosi, P; Tondello, G
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
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