CNR Institutional Research Information System

Oxygen and iron redistribution upon thermal treatment in iron implanted silicon

OTTOLINI L;
1990
1990
Istituto di Geoscienze e Georisorse - IGG - Sede Pisa
Inglese
MRS PROCEEDINGS
163
919
922
Sì, ma tipo non specificato
Symposium held on Nov.27-Dec.1 (1989), Boston (Massachusetts), U.S.A.- Title: Impurities, Defects and Diffusion in Semiconductors: Bulk and Layered structures, edited by D. J. Wolford, J. Bernholc, E. E. Haller, Pittsburgh (PA), U.S.A.
6
info:eu-repo/semantics/article
262
Pivac, B; Borghesi, A; Ottolini, L; Geddo, M; Piaggi, A; Stella, A
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
01.01 Articolo in rivista
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