[object Object]

A study of suppression effect of oxygen contamination by bias voltage in reactively sputtered ZrN films

Signore M A;Altamura Davide;
2012

Abstract

[object Object]
2012
Istituto di Cristallografia - IC
Oxygen contamination
R. F. sputtering magnetron
Zirconium nitride
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/282353
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 23
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact