CNR Institutional Research Information System

[object Object]

A study of suppression effect of oxygen contamination by bias voltage in reactively sputtered ZrN films

Signore M A;Altamura Davide;
2012

Abstract

[object Object]
2012
Istituto di Cristallografia - IC
Inglese
206
10
2711
2718
2-s2.0-84855258554
http://www.scopus.com/record/display.url?eid=2-s2.0-84855258554&origin=inward
Oxygen contamination
R. F. sputtering magnetron
Zirconium nitride
1
info:eu-repo/semantics/article
262
Rizzo, Antonella; Signore, M. A.; Valerini, Daniele; Altamura, Davide; Cappello, A.; Tapfer, Leander
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01.01 Articolo in rivista
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