Atomic forcemicroscopy characterization of sputtered vanadium oxide thin films grown on Al2O3 substrate

Cricenti, A; Generosi, R; Coluzza, C; Capone, S; Siciliano, P

doi:10.1007/s003390051321

Cricenti A;Girasole M;Generosi R;Coluzza C;Capone S;Siciliano P

1998

Abstract

Atomic forcemicroscopy characterization of sputtered vanadium oxide thin films grown on Al2O3 substrate

Scheda breve

Scheda completa

Scheda completa (DC)

	Anno
	
				1998
			
	Lingua/e
	
				Inglese
			
	Rivista
	
				APPLIED PHYSICS. A, MATERIALS SCIENCE & PROCESSING
			
	Volume
	
				66
			
	Fascicolo
	
				SUPPL1
			
	Da pagina
	
				S1175
			
	A pagina
	
				S1178
			
	Codice DOI
	
				https://dx.doi.org/10.1007/s003390051321
			
	Codice Scopus
	
				2-s2.0-4243599918
			
	URL
	
				http://www.scopus.com/record/display.url?eid=2-s2.0-4243599918&origin=inward
			
	Referee
	
				Sì, ma tipo non specificato
			
	Parole chiave
	
				afm
sensor
			
	Numero autori
	
				6
			
	Tipologia
	
				info:eu-repo/semantics/article
			
	Tipologia Login Miur
	
				262
			
	Tutti gli autori
	
						Cricenti, A; Girasole, M; Generosi, R; Coluzza, C; Capone, S; Siciliano, P
					
	Tipologia
	
				01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
			
	Fulltext
	
				none
			
	Appare nelle tipologie:
	
				01.01 Articolo in rivista

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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/310865

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