CNR Institutional Research Information System

Selective iterative etching of fused silica with gaseous hydrofluoric acid

R Martinez Vazquez;R Osellame;
2010
2010
Istituto di fotonica e nanotecnologie - IFN
Inglese
114
18712
18716
7
info:eu-repo/semantics/article
262
Venturini, F; Navarrini, W; Resnati, G; Metrangolo, P; MARTINEZ VAZQUEZ, Rebeca; Osellame, R; Cerullo, G
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
01.01 Articolo in rivista
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