BAGNABILITA DI SUPERFICI BASATE SUL CARBURO DI SILICIO

In questo rapporto viene presentato uno studio sulla bagnabilità di superfici basate sul carburo di silicio. Dopo una introduzione sul materiale e sulla definizione della bagnabilità, sono presentate le strutture studiate (SiC/Si, SiO2/Si, SiO2/SiC/Si sia in forma di strato epitassiale che di nanofili) con i metodi di crescita utilizzati: CVD (Chemical Vapour Deposition - Deposizione Chimica da Fase Vapore) e VPE (Vapour Phase Epitaxy - Epitassia da Fase Vapore). È pure studiata la morfologia delle diverse strutture con microscopia a forza atomica (AFM, Atomic Force Microscopy) e microscopia elettronica a scansione (Scanning Electron Microscopy) infine la misura dell'angolo di contatto sia sulle superfici "as grown" che dopo trattamento al plasma. La morfologia si presenta con bassa rugosità per le superfici piane, mentre quelle con nanofili sono in generale più ruvide ma con una bagnabilità migliore rendendole più adatte per utilizzo in campo biologico. Alcuni risultati preliminari di prove in vitro sono presentati per campioni di nanofili.