Cold plasmas: fundamentals and applications

Colonna G;Capitelli M;Laricchiuta A
2021

2021
Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi - ISTP
Inglese
75
9
241
243
3
https://link.springer.com/article/10.1140/epjd/s10053-021-00261-x
Cold plasmas
Electronic ISSN: 1434-6079 - http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-85114790612&partnerID=q2rCbXpz
3
info:eu-repo/semantics/article
262
Colonna, G; Capitelli, M; Laricchiuta, A
01 Contributo su Rivista::01.07 Editoriale, Commentario, Contributo a Forum in rivista
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