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XPS study of argon ion induced chemical reduction of silica surfaces

X-RAY PHOTOEMISSION AND AUGER-SPECTRA OF DAMAGE INDUCED BY AR+-ION ETCHING AT SIO2 SURFACES

PAPARAZZO E
1987

Abstract

XPS study of argon ion induced chemical reduction of silica surfaces
1987
Inglese
WOS:A1987J773700022
20
8
1091
1094
4
Sì, ma tipo non specificato
XPS
silica
Ar ion etching
1
info:eu-repo/semantics/article
262
Paparazzo, E
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
01.01 Articolo in rivista
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/404710
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