CNR Institutional Research Information System

Evaluation of HfAlO high-k materials for control dielectric applications in non-volatile memories

Bongiorno C;Lombardo S;
2008
2008
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
85
2393
2399
15
info:eu-repo/semantics/article
262
Molas, G; Bocquet, M; Buckley, J; Grampeix, H; Gely, M; Colonna, Jp; Martin, F; Brianceau, P; Vidal, V; Bongiorno, C; Lombardo, S; Pananakakis, G; Ghi...espandi
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