A novel approach to characterization of progressive breakdown in high-k/metal gate stacks

Pagano R;Lombardo S;
2008

2008
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
48
1759
1764
1
info:eu-repo/semantics/article
262
Pagano R; Lombardo S; Palumbo F; Kirsch P; Krishnan SA; Young C; Choi R; Bersuker G; Stathis JH
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
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