Rf-sputtering of stoichiometric amorphous TeO2 thin films

Zappettini A;Nasi L;Pietralunga S M
2005

2005
Istituto dei Materiali per l'Elettronica ed il Magnetismo - IMEM
40
1023
1027
4
info:eu-repo/semantics/article
262
Di Giulio, M; Zappettini, A; Nasi, L; Pietralunga, S M
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
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