CNR Institutional Research Information System

Low deposition temperature of microcrystalline silicon films by PECVD under high etching selectivity

A Sacchetti;M Losurdo;M Ambrico;G Bruno
2003
2003
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
ISPC 16 Taormina, Italy, June 21-27, 2003
Sì, ma tipo non specificato
Taormina, Italy
6
none
Grimaldi, A; Sacchetti, A; Losurdo, M; Ambrico, M; Capezzuto, P; Bruno, G
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/53754
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