Optical characterisation of silane-free deposited silicon nitride thin films by spectroscopic ellipsometry

G Bruno;M Losurdo;
2005

2005
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Proceed. of PVSEC14
Sì, ma tipo non specificato
Shanghai, China
5
none
Claudio, G; Bruno, G; Losurdo, M; Thwaites, M; Boreland, M
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
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