Wafer-Level Fabrication and Gas Sensing Properties of miniaturized gas sensors based on Inductively Coupled Plasma deposited Tin Oxide Nanorods

Forleo A;Francioso L;Capone S;Casino F;Siciliano P;
2010

2010
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/70215
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact