Structural and morphological evolution of aluminum nitride thin films: influence of additional energy to the sputtering process

MA Signore;A Taurino;M Catalano;MC Martucci;P Siciliano;F Quaranta
2013

2013
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
Inglese
74
10
1444
1451
8
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0022369713001911
Sì, ma tipo non specificato
9
info:eu-repo/semantics/article
262
Signore, Ma; Bellini, E; Taurino, A; Catalano, M; Martucci, Mc; Cretì, P; Vasanelli, L; Siciliano, P; Quaranta, F
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
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